01从光刻到电子束：一场微纳世界的革命

当芯片节点逼近 5 nm，传统光学光刻的衍射极限像一道看不见的墙，把人类对更小尺寸的渴望挡在门外。电子束曝光（e-beam lithography，EBL）应运而生——用高速电子替代光子，直接在基材表面“刻”出图案，无需掩模版，分辨率以原子为尺度。它既是科研探针，也是产业尖刀，正在重塑微纳加工的边界。

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