光刻机的主要作用

一、核心功能：电路图案转移（微电子制造核心技术）

光刻机通过光学技术将设计好的电路图案高精度转移到硅片表面，这一过程类似于“超精密照片冲印”，但精度要求达到纳米级‌34。其技术核心在于通过光源（如紫外线或极紫外光）照射光刻胶，利用光敏反应形成预设图案，为后续刻蚀、掺杂等工艺提供基础‌。
‌关键性‌：光刻工艺占芯片制造成本的30%，时间占比达40%-60%，是决定芯片制程水平和良率的核心环节‌。

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