光刻机技术解析与应用进展

一、定义与核心作用

光刻机是一种半导体制造设备，通过光学原理将电路图案转移到硅片表面‌。其作用类似于照片冲印，但精度要求极高，直接决定了芯片的制程水平和性能‌。现代光刻机可实现纳米级分辨率，对制造微处理器、传感器等微型器件至关重要‌。

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